金屬總量控制的新一代日立光譜儀OES分析方法發表時間:2023-12-21 10:46 ![]() 金屬行業從業者的經營狀況正處于凌冽寒冬時期。在冶煉使用廢料的過程中,鑄造廠和煉鋼廠所承受的壓力只增不減。供應鏈變得愈加復雜,甚至可能更加不可靠。痕量元素的立法越來越嚴格。因此,為確保持續生產符合所有規范和立法的優質盈利產品,鑄造廠和金屬加工企業需要測量和控制進出其場所的材料。這可能會產生問題。 為符合材料規范,必須測試所有事項。現行規范已超過許多中端OES光譜儀所能處理的范圍。高端OES光譜儀對許多企業而言遙不可及,可能不適合高產量生產環境。日立分析儀器的新型OE750便為解決此問題而應運而生。 介紹OE750:專為全新級OES分析而設計 OE750是一款**性設備。這款OES光譜儀具有**儀器的性能,但其購買價格優惠,運行成本合理。目前,其是同類產品中**能夠實現全新級OES分析的光譜儀,例如:
此款光譜儀的這些能力可確保鑄造廠和金屬加工廠首次無需出于成本考量而降低性能標準。對于鑄造廠、煉鋼廠、金屬制造商和廢金屬廠而言,OE750以具有成本效益的價格,提供全新級OES分析。 **質量控制,符合標準 OE750在同類產品中具有**光學分辨率,并涵蓋金屬中元素的整個光譜,能提供某些**檢出限。此性能通過構思新光學概念和發展其他技術創新而實現,例如新型密封火花臺和火花放光源。 額外優點(例如:啟動速度加快,維護間隔縮短)確保光譜儀支持高產量生產和100% 的PMI質量保證計劃。 搜索
|