日立手持式光譜儀X-MET8000系列在檢測高溫材料方面的應用

材料可靠性識別（PMI）檢查有時需要測試高溫下的在用組件，例如管道，反應容器等。不僅環境條件對用戶和儀器都提出了挑戰，所測試的合金通常還含有痕量水平的元素（例如Si，Mn，Cr，Cu）。這意味著用于合金檢測的儀器必須快速，堅固，即使在這些惡劣條件下也能提供**性能。

手持式X射線熒光光譜儀（HHXRF）****的發展使我們能夠應對這些挑戰。

HITACHI HIGH-TECH獨特的高溫樣品分析解決方案：全新 HERO?（耐熱）窗口膜

日立高新設計了一個全新的保護性窗口膜，可以直接分析高達400oC的高溫樣品中的合金元素，包括硅等輕元素！

在測試高溫樣品時，用戶所要做的就是將正常的Prolene窗口膜換成HERO?窗口！ 不需要特殊的墊片或防護罩。

樣品制備

為確保準確的檢測結果，應清潔被測部件的表面。去除油漆、腐蝕和污垢時，建議使用配有鋯砂盤的角磨機。

高溫樣品帶來了的挑戰：表面氧化速度非常快速，且高溫合金樣品的結構在高溫與冷卻時不同，因此如果測量相同的熱或冷合金，可能會看到成分的差異。

測量程序

為了在高溫條件下獲得**可靠性，操作X-MET8000（配有HERO?窗口膜）非常重要，如圖所示。

例如，如果測量200°C的樣品，則可以使用的**測量時間為20秒。如果測量20秒，則分析之間的最小冷卻時間為3分鐘；如果測量10秒鐘，冷卻時間減少到1.5分鐘（90秒）。

簡單來說，溫度越高，測量時間越短，冷卻時間越長。

性能

配備HERO?窗口膜的X-MET8000 Expert用于測試不同溫度下樣品的準確度和精度。在室溫（22℃）下分析——系列參考低合金鋼樣品，然后將合金在爐中加熱，X-MET8000 Expert使用合金模式（LE FP分析，包括輕元素）在200，350和400℃下測試。

注意：在分析之前，樣品的表面沒有被研磨，以確保它們在測試前不會冷卻。然而，加熱樣品表面上的嚴重氧化對硅（Si）結果具有顯著影響，其氧化水平隨溫度而增加。

樣品在室溫和200℃下分析20秒，在350和400℃下分析15秒。二次分析之間將分析儀在室溫下放置6分鐘冷卻。

結果表明，即使在高溫下和較短的測量時間，也可以可靠地確定合金元素的含量。由于樣品表面的變化，Si測量結果會有所不同。這是高溫樣品測試中的主要挑戰，因為氧化過程在高溫下快速進行。

總結

X-MET8000手持式分析儀為材料可靠性識別（PMI）檢測以及制造質量保證提供快速可靠的材料識別和化學分析。借助Hitachi High-Tech獨特的HERO?窗口膜，X-MET可用于測試高達400°C的熱樣品，使用戶可以現場測試，并**限度地減少間隙時間。